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三維光學輪廓儀
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Sensofar S Lynx3D表面形貌測量新選擇
Sensofar S Lynx3D表面形貌測量新選擇Sensofar S Lynx 是一款高性能光學3D表面形貌測量儀,結合共聚焦和白光干涉技術,適用于微納米級表面形貌分析。該設備廣泛應用于半導體、精密制造、生物醫(yī)學、材料科學等領域,提供高分辨率、高重復性的測量數(shù)據(jù)。
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Sensofar S Lynx 是一款高性能光學3D表面形貌測量儀,結合共聚焦和白光干涉技術,適用于微納米級表面形貌分析。該設備廣泛應用于半導體、精密制造、生物醫(yī)學、材料科學等領域,提供高分辨率、高重復性的測量數(shù)據(jù)。Sensofar S Lynx3D表面形貌測量新選擇
高精度測量:采用*光學技術,Z軸分辨率可達納米級,橫向分辨率優(yōu)于亞微米級。
多模式檢測:支持共聚焦、白光干涉和相位干涉模式,適應不同表面特性。
快速掃描:高速掃描模式提升檢測效率,適用于批量樣品分析。
非接觸測量:避免樣品損傷,適用于軟性、脆性或高反光材料。
光學系統(tǒng):高精度物鏡與穩(wěn)定光源設計,確保測量穩(wěn)定性。
機械結構:航空級鋁合金框架,抗振動、耐磨損,保證長期使用精度。
軟件界面:用戶友好型分析軟件,支持3D建模、粗糙度分析、臺階高度測量等功能。
參數(shù) | 指標 |
---|---|
測量技術 | 共聚焦/白光干涉 |
Z軸分辨率 | ≤0.1 nm |
橫向分辨率 | ≤0.5 μm |
掃描速度 | ≤1 s/測量區(qū)域(視模式) |
最大樣品高度 | 100 mm |
適用環(huán)境 | 實驗室/潔凈室 |
S Lynx Standard:基礎款,適用于常規(guī)表面測量。
S Lynx Pro:增強版,支持更大樣品尺寸與更高掃描速度。
S Lynx Nano:超高分辨率版,專用于納米級表面分析。
半導體行業(yè):晶圓、光刻膠表面檢測。
精密制造:刀具、模具、光學元件測量。
生物醫(yī)學:植入物、生物材料表面分析。
科研機構:材料科學、摩擦學、微納加工研究。
Sensofar S Lynx 憑借高精度、多模式測量和穩(wěn)定性能,成為工業(yè)檢測與科研分析的理想工具。如需了解更多信息,歡迎聯(lián)系我們的技術團隊獲取詳細方案。Sensofar S Lynx3D表面形貌測量新選擇
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